Propriétés électrochimiques et photoélectrochimiques des éléments semiconducteurs du quatriéme groupe

Propriétés électrochimiques et photoélectrochimiques des éléments semiconducteurs du quatriéme groupe

ELECTROXN_XI_YTICA CHEMISTRY Publishing Eketier Company, AXD ISTERFACIAL Amsterdam - Printed ELECTROCHEMISTRY in The 399 Netherlands PRO...

503KB Sizes 0 Downloads 115 Views

ELECTROXN_XI_YTICA

CHEMISTRY

Publishing

Eketier

Company,

AXD

ISTERFACIAL

Amsterdam

-

Printed

ELECTROCHEMISTRY

in The

399

Netherlands

PROPRIl?Tl?S

l?LECTROCHIMIQUES ET PHOTOGLECTROCHIMIQUES sEMICONDUCTEURS DU ~~_uxIEIME GRouPE DE Lh COMPOSITION CHIMIQUE DE L’~LECTROLYTE SUR LE PROCESSUS DE LA POLARISATION ANODIQUE DU SILICIUM ET DU GERM2WXUM

DES PLEMENTS IX. L’INFLUENCE

Le germanium et le sticmm sont des elements chimiques du type semiconducteur, appartenant au groupe IV du classement pkiodique. Leurs propri&% sont bien connuesl--3 et nous avons don& fondamentales physiques et chimiques un aperqu desplopri&% 6lectrochimiques spkifiques des elements serniconducteurs", qui e&fond6 surlestrava~~~ de BRATWIN ET GARRE 3~5, GERISCHER~, PLESKOV~ et BODDYa.

Nous essayerons de p&enter, sur la base de l'effetde dressage sur les &lectrades semiconductrices dkouvert par BRATTAIN 5, l'interp&tation physique simple du

processus

P_4RTIE

de

polarisation

anodique

et

cathodique

du

germanium

et

du

sacium.

THkORIQUE

peut diviser les courbes de polarisation anodiques

On premier

groupe

se

caractkrise

par

un

courant

relativement

en trois groupes_ Le important

qui

cro?t

rapidement avec laugrnentation de la polarisation inverse, mais ne possede pas de limite de tension bien definie.Sion fait croitrela tension davantage, on peut provoquer

une

augmentation

(Fig- I, courbe Le et provient

rapide

deuxi&me du

groupe

fait q'une

transformantplusloin pourle

et illirnit6e du

courant

2 cause

des

effets thermiques

I)S.lO_ se caractkise g&&ation

en unezonedite

potentielmaximal

par

le de'but

a lieu dans “de

(Fig. I, courbe

des

la r6gion

transition

courbes

de

exponentieues,

la charge

d'espace,

se

-.

molle"danslazonedeclaq~age.

II)_

Le troisi&me groupe englobe les courbes encore plus rapproch&s-des c0urbe.Y theoriques (Fig..I, courbe III). Le potentielde l'ekctrode pour lequel la den&t6 du corn-ant

commence

5

crO3x-e

rapidement

s’appelle

potentiel~

de

claquage.

La-

'-

valeUr

maximale du potentiel.de claquage est d6finieparla.disruption dkjonktionpar skit& de l'adion d'un champ elektrique tr&s itipotiant-sur la zone de la charge d'espace. ~(1) Le

m&an&me

de

claquage

en

volume,

correspond

au

troisiitm&.g-roupe.des

courbes

:_

pola&isationcWcrit~iilessus: L’accroiskement de~.la den+& deco&ant de-&or&ctjon:pK&~ du .p$ent&i Deb -. claqua& r&&e de: la .&ultiplication k-i: a%&lb&z~. d&!.por$+s ?&rk ia gone DDE_ .i&I..-.I:_ +a& +‘espace; _&a@ la do$ej-&he .au: voisinge_ &. I’&ctrq$e .(F~~gAz)~ .. T ,.I..:f'-.: ~. de

:

.:.

-

-..

-.

_-_ -~~..

:. Y

r-,.~:_=:. . ; _. .-.. .--<_I_ :i._~. ~. ~._~‘_

._ ,_

-I

_A. ‘CVOLKENHEKC;

400

SUI la dt$cndcnce du courant de *I‘URKEH~~ et FLYNN~". dc la corrosion et de la vitmse dct diffwsior, de< trous. que nous avons Lcs

q)inions

/ /J

ration

cn ref. 4, xxublcnt

c.himiques

C!trc verificx?s, surtout

ofit une influence

I

rkgligeable

si

IIOUS

suppo.sor~s

cn colnyaraiwn

cn

de satu exposks

outrc: clue k-s r&actions

du pl~~hornhcs

pllysicluch.

Iii

II

I

I

I

r

Zone

.._

tmns8toon ”

,de*

rr>rr,t..

/

A’

_-

_*..._

-

--

I-

._

--

_.... -

PotPnilPI’

I-

I_

.__-_

-_

dP

‘3 ”

cloquoqe Fiff_

*. ,\upncnt;rtion P



(I)

-

t-n

fonct

8~3x3dc- 1.x te*nc.ion

I

r$ = pntetitittl de l’t~lwtrodc & = potentiel de claquage de type ??t. = _x pour Ic: germanium le siliciuin de ;‘yp~ 91 e!t p

J. Elect*oanal:

Chnm..

I 4 (I 907) 39+400

n, 6 pour

lc germanium

de tp

p. 2.5

pour

‘blent d.uls \

L43 courl~cs tic ~tctlari~;itiorl anitcliclui: tlu gcr!4hnnlum c!t clu CilicilLm se reswmct dCrnontrent. que dans les dellx cit.5 il s’apt d’unc jonction fi-n phritic IA direction de blockage. 1.e courant inverw de satllration pellt fitrc ohwrv6 star trwtcs Its courbcs

40”

A.

20

fi.

8!i

1

15.

a =

4-d;

-10

I/ 0

~_~____/v _i



-30

T__--.__

-no

-- __._ _ FL,

.‘.

.:;;o-

-1rm

-

.

- 120

C-

IA0

WOLI
,

2 Y “5

iXC

-’

._ -_-

-

4

t

I

j.

~ltictrounol.

Chrm..

14

(f-7)

3cy~406

A_ WOLKEXEERG

404

Fig- I. le germarrium appartient au premier groupe (Fig_ 7); au second le silicium de typep (Figs.7 et8); etletroisigme groupe englobeles courbes depolarisation du silicium de type IZ (Figs. 7 et S). O-1

M

Le potentiel FeCls+FeCls Cans

le czs

de claquage pour une electrode de 0.3 Qcm en germanium en (Fig. 7) e&6@& 4 V environ etpourle siliciti'aenviron ++ V. etudie, on peut

distinguer

une

difference entre les potentiels

de

claquage du germanium et du silicium (Fig. 7)_ Ces differences sont pour les semiconducteursdetypen(~=0_3!Acm) del'ordrede35V,dansl'electrolyte 0-1 rM NaNO,, de l'ordre de 40 V daus l'electrolyte redox O-I M FeCll+FeCG et de 50 V environ dans 0.1 M FeS04+Fe=(SOa)z p our uu courant de polarisation inverse de 5 rnA/cm"_ Pour un serniconducteur de type p (Fig. 7) cette difference est de l'ordre de 25 V. Le courant de saturation estbeaucoup plus grand pourle germanium, que pour le silicium, parce clue il depend de la quantite totale des porteurs rninoritaires. La mobilite des porteurs minoritaires, c’est a dire des trous, est dix fois plus grande dans le germanium que dans le silicium. Ces phGnom&es espliquent bien la difference entre le processus de polarisation anodique des electrodes en germanium.et en sihciumOn peut supposer, qu’en diminuant la densite des additions, c’est 2 dire en faisant croitre la resistivite du semiconducteur, on fait en meme temps cro%tre la tension de disruption et diminuer le courant de saturation. Cela etait confirme par l’expkience (Fig. 8). Par example, la tension de claquage pour une electrode en sihcium n de resistivite e =zss Skm est &gale a rzo V environ, dans I’electrolyte 0.1 1M NaITO3, tandis que pour une electrode en sihcium ?t de resistivite 0.3 Qcm, dans le mEme electrolyte elle est Cgale B 30 V senlement. La polarisation anodique des Electrodes en semiconducteur de type $ (Figs. 7 et 8) a une allure similaire, avec la seule difference, que le courant de saturation est plus important et la tension de percage plus faible, 2 cause d’une densite plus grande des porteurs minoritaires, c’est 5 dire des trous. L’influence de la composition chimique de l’electrolyte sur le processus de polarisation anodique est representee sur le Fig. S. Pour des concentrations differentes du meme electrolyte (HNOS p ar e-temple) l’accroissement du courant de saturation est proportionnel B l’augmentation de la concentration de HNO3rr_ Pour les 6lectrolytes difftkents, le processus de polarisation anodique depend du genre de cation et de l’anion. On peut expliquer ces ph@nomi?nes en comparant les propriet& physico-chimiques du systeme electrode+lectrolyte aus jonctions p-z semicooducteur-m&al L'anaIyse montre que ces diff&ences sont dues aux valeurs differentes des constantes qui caracterisent 1e.s jonctions 9-n daus les differents electrolytes ou aux differentes concentrations du meme electrolyte. Le coefficient de multiplication de couraut M (kqn. (r)) calculk pour les electrodes semiconductrices sonrnises au-Y essais montre l’abaissement du coefficient de multiplication d'avalanche dans 0-1 M N&JO,, en fonction de l’augmentation de la Gsistitite du semiconducteur (Tableau I) et de la composition trolyte (Tableau z)_ Pour le gerrna+un, le coefficient M est plus grand que

chimique pour

de l’elec-

le silicium- Un

~phenomene analogue se prkente daus les transistors et diodes. La polarisation cat?odique du germanium et,du silicium, dont lesr&stivit& -sent faibles,~ est une polarisation da& la direction de conduction de la jonction filz

_-~~JA3&+&,L ~. ...._~ ._

&viz., ~14(196-i) jg&s

.-

_

.~

-

-

-

. 7

I

.

1 E

a.

_

1 -

. .

;

-

I

_ w _ _

i

I-es exptiriences ont 1’Universitd dc \‘arsovie.

Ctc; faittfs

dan<

Ie lnborntoirc

de Chimic

C’hysicple

de